光掩膜精密壓印模具全息母板

提供微納模具、納米壓印模具、光掩模板、全息制版,導光板模具加工。蘇大維格有業內高水準的微納光刻和激光精密加工設備。

1、大尺寸熱壓導光板的金屬模具加工,成套的超薄導光板精密模具的激光刻蝕設備和工藝。參見超薄導光板。

2、黃光工藝的光掩膜板直寫加工,提供大幅面激光直寫設備、大幅面無掩模圖形化光刻設備。

3、高端激光全息制版系統和工藝

4、其他微納結構精密金屬模具制備

一、精密導光板模具、精密激光刻蝕系統
通過多年研發,蘇大維格自主研發了高端激光刻蝕系統,攻克了超薄導光板的精密熱壓模具的整套設計與制造技術,建立了行業熱壓導光板產線,實現了高品質的導光膜和超薄導光板的熱壓生產。
 
采用卷壓(roll-to-roll)制程,高效率實現精密導光板的批量生產。柔性壓印將精密模具上的微光學結構復制到光滑塑性板材或薄膜表面,微光學結構有效地將全內反射進入導光板(膜)光線導出表面。光線從接近正出射角度導出,亮度更高,更均勻。
 
精密導光板模具激光加工設備LGPMarker:I型:適合于15.6寸以下筆記本導光板模具加工; II型:適合于27"一體機導光板的加工;III型,適合于TV導光板70"模具加工。
也可根據客戶需求,訂制“滾筒模具激光加工設備”
 
 
由于我們建有熱壓型導光板的整套產線,包括:光學設計、精密模具制備工藝、大幅面激光刻蝕設備、卷壓印設備和光學檢測設備。因此,我們制造的大尺寸精密導光板設備和工藝的可靠性得到充分保證。生產的超薄導光板的光學效率和均勻性較佳。
 
 
二、光掩膜板制
 
大尺寸掩模規格
線寬:2um-3um,5um-10um;
光學分辨率:0.35um,0.5um
尺寸:8"-16", 18" - 24", 27"-32"
基片:蘇打玻璃、石英。
設備:紫外激光圖形化直寫光刻系統iGrapher810
用途:OGS, 精密電路、柔性電子
文件:ACAD(DXF),Ledit(GDSII)
 
精密掩膜板規格
線寬:1um - 3um,
光學分辨率:0.22um
尺寸: 2" - 7"
用途:MEMS,集成電路、柔性光電子、科學研究設備:紫外激光圖形化直寫光刻系統iGrapher200文件:ACAD(DXF),Ledit(GDSII)
 
納米圖形壓印模板
亞微米-納米光子晶體圖形模板
蜂窩或點陣周期:240nm-800um
常規尺寸:2寸-8寸
用途:OLED納米襯底、LED納米圖形化壓印模板 材料:玻璃,硅片
設備: 納米圖形化光刻NanoCrystal-8; 紫外干涉曝光系統。

三、全息制版光刻

   幅面4"-42"。
    300nm以上特征結構
    各類全息圖形、3D、微圖形、納米水印
    3D彩色圖形

※ 壓印模板:壓印服務
※ 100nm點陣以上周期結構,1微米以上結構復制
※ PMMA、PC、PET材料
※ UV coating 膠

深紋微結構模具:LIGA工藝、激光刻蝕
※ 精密模具:線寬10um-200um,深度5um-30um
※ 精密印刷Ni網版
※ 圖形刻蝕(矩陣、蜂窩、棋盤、圓形、直線等)
※ 位相光柵、衍射元件、全息圖、精密圖形、MEMS
※ 3D成像、空間動感成像(懸浮成像)
四、OLED鏤空掩膜點擊查看277x199原始圖片...

    鏤空開口: 10um -40um
    Ni板厚度:30um ~40um
    OLED有機蒸鍍、微電極鏤空掩膜板、網版
    文件:ACAD(DXF),Ledit(GDSII)

Thickness
   
Pattern area (Ni): 10um - 20um, Frame area(Inver): 0.5mm - 1.0mm
Accuracy of opening size
   
≦±3um
Maximum size of processing
   
650mm x 550mm
Accuracy of pitch
   
≦+/- 10um for 500mm

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